氢化非晶碳膜与硅的界面特性

摘要

利用直流辉光放电分解碳氢气体来淀积a-C:H(氢化非晶碳)膜,通过测量Al/a-C:H/Si MIS结构的高频C-V曲线讨论了a-C:H/Si界面的电子特性.结果表明a-C:H/Si膜有可能用作半导体器件的表面钝化膜。