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GaAlAs/GaAs DH液相外延的几个问题(摘要)

     

摘要

圈线着提高液相外延过程的重复性、均匀性对外延工艺中的几个问题:降温速率、混源、陪片、外延系统等提出一些初浅的看法,在上述考虑的条件下已得到初步结果。所得外延片已制成室温连续DH激光器。在提高激光器性能和寿命上还需继续做工作。

著录项

  • 来源
    《半导体光电》|1981年第2期||共页
  • 作者

  • 作者单位

    北京有色金属与稀土应用研究所半导体室镓铝砷外延组;

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  • 正文语种 chi
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