光刻胶用于分步重复照相工艺的尝试

摘要

＜正＞ 目前制版工艺大多采用超微粒干版进行分步重复照相,然后复印成阴版,再利用阴版制成光刻版。如果能用光刻胶涂在金属版（氧化铁版或铬版）上进行制版,以此代替超微粒干版,就可以节约银盐,降低成本,提高质量,简化工艺。因此,用光刻胶取代超微粒干版的工艺,在国内外受到广泛重视,正在大力研究与试用。在吸取有关兄弟单位经验的基础上,我们在用光刻胶代替超微粒干版工艺上进行了尝试。几个月来,我们先后试制了运算放大器BG305、集成稳压器、AD转换器等几种线性集成电路的阴版、光刻版,图形的最细线条是10微米,经试用,图形完好率和（大长）准性均良好。由此可见,光刻胶用于分步重复照相工艺是可能的。