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毛兴武;
机译:减少perssure-chemical汽相淀积的高通用电气对锗硅层/ Si superlayers质量微电子与光电子学的目的
机译:直流电弧等离子体喷射化学汽相淀积法制备高质量金刚石薄膜
机译:REDOX新方法面上的淀积CrO_x纳米粒子的Pd(0) - 选择性氢化催化剂的苯乙炔
机译:超大规模集成电路互连金属化的化学气相淀积层与化学沉积方法的比较
机译:流行病学研究中辛辛那提中央空气质量监测数据的时间内插值模型:PM2.5使用正矩阵分解的PM2.5源分配(PMF)
机译:使用SiO2纳米颗粒使用全波分析在扫描沉积电位下用汽提时测定法的全波分析研究痕量金属阳离子的结合异质性
机译:真空紫外直接激发型光化学汽相淀积法研究SIO2薄膜的低温生长
机译:健康危害评估报告:HETa-2008-0237-3097,辛辛那提警察局,俄亥俄州辛辛那提刑事调查科,2009年12月。评估癌症,室内环境质量和警察局潜在的化学危害
机译:等离子体化学汽相淀积装置及采用该装置的化学汽相淀积方法及装置内部的清洗方法
机译:低温多晶硅薄膜的元件及其在低温下直接淀积的多晶硅薄膜的方法及其感应耦合等离子体化学气相淀积设备
机译:高速旋转汽相淀积装置及高速旋转汽相淀积薄膜形成方法
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