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七七一所五室二、五组;
机译:通过等离子体增强化学气相沉积双层富硅氧氮化硅和氮化硅的表面钝化结晶硅
机译:氮化硅基电介质的低温处理技术及其在表面钝化和集成光学器件中的应用进展
机译:微波PECVD工业规模沉积氮化硅完成的硅太阳能电池的体积和表面钝化
机译:使用多功能膨胀热等离子体技术通过高速率沉积的氮化硅,二氧化硅和非晶硅获得高质量的表面钝化
机译:用于集成电路钝化的低频PECVD氮化硅的合成与分析
机译:经过表面处理钝化酸和氩等离子体净化处理后的钛的表面特性
机译:利用多功能扩展热等离子体技术获得高质量沉积的氮化硅,二氧化硅和非晶硅获得的高质量表面钝化
机译:通过快速热氧化物/ pECVD氮化硅叠层有效钝化低电阻率硅表面及其在钝化后部和双面si太阳能电池中的应用
机译:等离子体钝化技术,用于防止在蚀刻处理后遭受铝离子腐蚀的铝膜腐蚀
机译:采用表面钝化和倒装芯片技术的金刚石膜钝化技术可实现整体电路隔离
机译:反应性等离子体蚀刻后的半导体表面钝化-涉及使用钝化混合物进行额外的等离子体处理,以取代吸附在表面上的反应性化合物
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