AM混合相Si:P:H膜

摘要

本文介绍采用辉光放电法分解SiH4+Ar+PH3的混合气体淀积掺磷氢化非晶硅膜,即a-Si:P:H.再使其结晶化,得到非晶-微晶混合相结构的Si:P:H膜,即AK-Si:P:H.对膜的结构和性质作了探讨和分析.结果表明,AM-Si:P:H合金膜结构均匀、致密,对可见光及近红外有良好光吸收.退火温度达到500℃以上时,AM-Si:P:H膜的电导特性有一大的突破.S-W效应明显减小,是p-i-n太阳能电池所希望的n+型材料.