剥离光刻在CMOS集成电路刻铝中的应用

摘要

本文主要报导了剥离光刻工艺及其在半导体集成电路CMOS刻铝中的应用方法,工艺实验是在生产线上进行的,本文还报导了实验结果、CV测试及高温存贮情况。