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小新厂铜的氧化富集现象

         

摘要

<正> 表生条件下铜的迁移是众所周知的现象.一般情况下,氧化淋虑带显著贫铜,而次生硫化带则富铜.小新厂铜矿氧化富集现象较明显.该矿床未见流化富集带,原生矿体薄而贫,但由于氧化富集可形成比原生矿较富厚的矿体,从而提高了矿床的利用价值.本文试图通过分析控制氧化带发育的诸因素,探讨铜的迁移途径和氧化富集部位,以为在该类矿床中寻找较富的矿体参考.

著录项

  • 来源
    《地质与勘探》 |1976年第6期|46-49|共4页
  • 作者

    曾群望;

  • 作者单位
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
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