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袁国栋; 王瑞莉;
冶金部钢铁研究总院;
机译:低温等离子体增强化学气相沉积法制备纳米复合TiN / SiN_(1.3)涂层的力学性能与微观结构的关系
机译:NH {sub} 3等离子体预处理对通过等离子体增强化学气相沉积(PECVD)制备的TiN涂层的性能的影响
机译:等离子体增强化学气相沉积法沉积多层TiN /(Ti0.5Al0.5)N涂层的结构和力学性能
机译:通过脉冲DC等离子体增强化学气相沉积制备的BN / TIBN / TIN多层涂层的表征
机译:研究硬质合金切削刀具刀片(硬质合金刀具,化学气相沉积)上化学气相沉积(CVD)金刚石涂层的附着力的机械和物理问题。
机译:N2:(N2 + CH4)比在低温等离子体增强化学气相沉积法生长疏水纳米结构氢化氮化碳薄膜中的作用研究
机译:N2:(N2 + CH4)比对低温等离子体增强化学气相沉积法制备疏水纳米结构氢化碳氮化物薄膜的研究
机译:等离子体辅助化学气相沉积法制备m2钢表面TiN涂层
机译:在钛合金上低温等离子体增强TiN薄膜化学气相沉积的方法。
机译:用于通孔级应用的在钛上进行低温等离子体增强TiN膜的化学气相沉积方法
机译:在钛层上低温等离子体增强TiN薄膜化学气相沉积的方法。
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