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李敏张勇陆明张强基;
复旦大学真空物理研究室!上海;
200433;
因子分析法; SiO; 2; /Si界面; 表面电子谱; 深度剖析; 化学态;
机译:电子辐射对俄歇电子能谱法研究SiO2 / Si(100)表面深度分布的影响
机译:X射线光电子能谱研究多层纳米结构(Co45Fe45Zr10 / a-Si)(40)和(Co45Fe45Zr10 / SiO2)(32)表面层中原子的相互作用
机译:原子层沉积的原位俄歇电子能谱研究:钌ALD在Si-H,SiO2和HfO2表面上的生长引发和界面形成反应
机译:用光电子能谱法测量热氧化SiO2 / Si结构的电子态
机译:用光电子衍射和光电子能谱研究碱金属吸附的Si(001)表面。
机译:TiO2(Ti)/ SiO2 / Si叠层内部结构的软X射线反射法硬X射线光电子能谱和透射电子显微镜研究
机译:角分辨X射线光电子能谱法评价SiO2 / Si(100)体系:光电子衍射和非弹性散射过程的影响研究
机译:X射线光电子和X射线诱导的俄歇电子能谱数据,3。石墨,si,siC,si sub 3 N sub 4和siO sub 2. si3N4和siO2
机译:MoSi2-2WT%SiO2 / B添加的Mo5Si3-5WT%SIO2 / Mo-Nb-Si三元合金三层覆盖Nb基合金及其制造方法
机译:用SiO2外部添加剂处理电子纸表面的方法及用该方法制备的SiO2外部添加剂处理电子纸的表面
机译:碳黑,SiO2用于复合材料表面处理的电子纸的颗粒外部添加剂和利用碳黑,SiO2处理复合材料表面的电子纸的颗粒添加剂
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