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一种以Y2Si2O7为基体的Si3N4/SiO2/SiC基微波吸收陶瓷的制备方法

摘要

本发明涉及一种以Y2Si2O7为基体的Si3N4/SiO2/SiC基微波吸收陶瓷的制备方法,属于微波吸收材料技术领域。本发明将Si(OC2H5)4溶解于乙醇中得到溶液A,Y(NO3)3·6H2O搅拌溶解于去离子水中得到溶液B;室温下,溶液A和溶液B搅拌混合得到凝胶C,凝胶C干燥得到干凝胶,干凝胶研磨成凝胶粉,凝胶粉进行冷压成型后置于温度为1400~1500℃的空气中烧结热处理2~3h,得到Y2Si2O7粉末;Y2Si2O7粉末采用碳化硅化学气相渗透技术沉积,得到SiC‑Y2Si2O7复合陶瓷,SiC‑Y2Si2O7复合陶瓷经温度为1100~1200℃下氧化2~3h,得到SiO2/SiC‑Y2Si2O7复合陶瓷,SiO2/SiC‑Y2Si2O7复合陶瓷经氮化硅化学气相渗透技术沉积得到Si3N4/SiO2/SiC‑Y2Si2O7复合陶瓷。本发明复相陶瓷的电磁波吸收性能的可控性调节。

著录项

  • 公开/公告号CN114455943A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-05-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 成都大学;

    申请/专利号CN202210328147.8

  • 发明设计人 魏汉军;赵峰;王清远;余亚苹;

    申请日2022-03-30

  • 分类号C04B35/16;C04B35/628;

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 610016 四川省成都市龙泉驿区外东十陵镇

  • 入库时间 2023-06-19 15:15:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-05-10

    公开

    发明专利申请公布

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