退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
张玉峰; 王胜利; 刘玉岭; 段波; 李若津; 杜旭涛;
河北工业大学微电子研究所;
天津300130;
二氧化钛薄膜; 碱性抛光液; 化学机械抛光(CMP); 表面粗糙度; 原子力显微镜; (AFM);
机译:衬底粗糙度对溶胶-凝胶法制备的TiO_2,SiO_2和掺杂薄膜表面结构的影响
机译:TiO_2薄膜化学机械抛光中表面粗糙度的研究。
机译:表征TiO_2薄膜表面粗糙度的新方法
机译:入射角对TiO_2薄膜光学性能和表面粗糙度的影响
机译:薄膜生长中薄膜孔隙率,表面粗糙度和厚度的随机建模和控制。
机译:通过物理和化学方法提高聚二甲基硅氧烷薄膜的表面粗糙度
机译:亲水性siO_2 / TiO_2纳米双层的表面粗糙度分析 通过平交道口方法
机译:前缘薄膜冷却和表面粗糙度对跨越低压和高自由流湍流的跨音速叶片冷却效果的影响
机译:CMP系统和方法测量板表面在CMP粗糙度测量
机译:减少金属物体的表面粗糙度和使用的抛光液
机译:设备和测量表面粗糙度的方法CMP垫
抱歉,该期刊暂不可订阅,敬请期待!
目前支持订阅全部北京大学中文核心(2020)期刊目录。