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张建平; 翁羽翔; 袁定朴; 徐积仁;
中国科学院物理研究所;
北京100080;
金刚石; 薄膜; 等离子体; 直流电弧;
机译:残余应力分布对在气体再循环模式下操作的直流电弧喷射等离子体化学气相沉积产生的厚独立金刚石薄膜开裂的影响
机译:气体再循环模式下直流电弧喷射等离子体工艺制备金刚石晶片
机译:薄型金刚石薄膜的残余应力分布及其在气体回收模式下使用直流电弧等离子体喷射制备厚自由式金刚石薄膜的影响
机译:等离子体增强了硅薄膜的化学气相沉积:利用等离子体诊断技术表征不同频率和气体成分下的薄膜生长。
机译:不同氟基混合气体使用电感耦合等离子体干法刻蚀钛酸钡薄膜的比较分析
机译:不同原料气体直流电弧等离子体制备金刚石薄膜的比较研究
机译:金刚石薄膜上碳纳米管生长的三种不同化学气相沉积技术的比较研究。
机译:研究研究数据库,用于比较不同的研究并比较与方案相比的实际活动
机译:在没有正柱的情况下进行直流等离子体辅助化学气相沉积的方法和设备,以及由此制造的金刚石薄膜
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