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张在玉; 陈秀华; 韩永强;
云南大学物理科学技术学院材料科学与工程系,昆明650091;
CoSiN; 磁控溅射; 热退火:互连阻挡层; CoSiN/Cu/CoSiN/SiO2/Si;
机译:FMCVD沉积的TiN和TiN / Al / TiN薄膜的扩散阻挡特性,用于ULSI中的铜互连
机译:Zr-Cu-Ni-Al-N薄膜金属玻璃的结构演变及Cu-Si互连在升高温度下的扩散阻挡性能
机译:用于90 nm和65 nm技术节点Cu互连的Cu扩散阻挡层电介质的薄膜表征
机译:用于ULSI互连的难熔过渡金属基铜扩散阻挡层的原子层沉积和性能。
机译:用于Cu / Si Connect系统的Alcrtatizr / AlcrtatizR-N高熵合金薄膜的扩散阻挡性能
机译:通过还原CuxO薄膜的Cu的热aLD,用于自旋电子和ULsI互连系统中的高级金属化
机译:金属阻挡层和互连薄膜的生长和结构I:实验
机译:用于ALCVD的Cu互连的多层阻挡金属薄膜
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