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向鹏飞; 姜华男; 曲鹏程; 杨修伟;
重庆光电技术研究所;
重庆400060;
氮化钛; 遮光层; 刻蚀; 选择比;
机译:用于高密度CCD图像传感器的新型钨丝遮光结构
机译:基于新型喷涂设备和工艺优化的喷射滤灰技术研究
机译:三层提花窗帘面料提花技术研究,具有紫外线遮光功能和双侧不同效果
机译:用于新型半导体的接触层和功能层的工艺开发。
机译:铁氟龙/ SiO2双层钝化层可提高采用新型双光掩模自对准工艺制造的氧化物TFT的电气可靠性
机译:用于低成本水分裂工艺的新型磺化的PENTABLOCK共聚物膜和改性气体扩散层的适用性
机译:新型307 mpixel CCD顶点探测器的设计和性能
机译:具有遮光层的固态CCD图像传感器
机译:新型遮光染料和彩色照相层的改进和相关
机译:包括遮光层的薄膜晶体管,阵列基板及其制造工艺
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