镶嵌在SiO_2薄膜中的纳米InSb颗粒的制备

朱开贵; 石建中; 魏彦峰; 张立德

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镶嵌在SiO_2薄膜中的纳米InSb颗粒的制备

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用射频磁控测射的方法制备了镶嵌在SiO2 薄膜中的纳米InSb颗粒 .透射电子显微镜观察表明 ,纳米InSb颗粒均匀地镶嵌在SiO2 介质中 .通过控制热处理的条件 ,可以得到具有不同颗粒尺寸的InSb纳米颗粒 .InSb颗粒的尺寸与热处理温度和时间成正比 ,但是并不满足t1/3 的关系 .另外 ,还通过X射线衍射以及X射线光电子能谱对InSb SiO2

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来源
《科学通报》 |1998年第13期|1389-1393|共5页
作者
朱开贵; 石建中; 魏彦峰; 张立德;
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作者单位

中国科学院固体物理研究所;

合肥230031;

复旦大学表面物理国家重点实验室;

上海200433;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TN304.23;
关键词
磁控溅射; 二氧化硅薄膜; 锑化铟; 纳米颗粒;

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