设置四面体斜坡对气膜冷却特性的影响

摘要

利用四面体斜坡抑制圆孔下游的CVP(反向旋转涡对),采用PLIF(平面激光诱导荧光)技术,在吹风比为0.5、1.0、1.5和2.0的情况下,针对四面体斜坡与圆形气膜孔的6种相对布置方式,实验研究并分析设置四面体斜坡后对气膜孔下游气膜冷却特性产生的影响。实验研究表明:相对于气膜孔,6种四面体斜坡模型都可以抑制CVP,提高气膜冷却效率;在6种四面体斜坡模型中,气膜孔上、下游同时放置逆风斜坡的组合模型可以取得最长的气膜长度和最高展向平均效率,当吹风比为0.5和2.0时,气膜孔出口下游x/d=3面上的展向平均效率分别是未设置四面体斜坡时的3.7和4.9倍。