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汪海波; 王笑颜; 张忠祥; 鲁世斌; 王菲菲; 杨金;
合肥师范学院电子信息工程学院;
硅; 化学机械抛光; 氟离子; X射线光电子能谱; 接触角;
机译:两种抑制剂在GLSI铜表面化学机械抛光中的成膜机理,缓蚀作用和协同作用的研究
机译:氟离子对高碱性溶液铀氧化机理的作用
机译:(〜iPr_3P)_2Ni离子对碳氟裂解的机理研究:(〜iPr_3P)_2NiC_6F_5在活化C_6F_6中作为重要的Ni(I)副产物表征
机译:抗衡离子对全氟辛酸酯和全氟辛烷磺酸的理化性质的作用
机译:含氟硅氧烷的研究:辛酸亚锡和碱金属碳酸盐催化的硅烷醇封端的三氟丙基甲基硅氧烷的缩聚反应,以及对氟苯基,对三氟甲基苯基和五氟苯基取代的硅氧烷的合成和表征
机译:医用纳米银和银离子对红细胞抗氧化系统的毒性机理比较研究:从抗氧化酶活性和分子相互作用机理的角度
机译:浆料对化学机械抛光过程中材料去除机理的基本作用研究
机译:原子力显微镜图像光谱和尺度分析的介电化学机械抛光机理研究
机译:化学机械抛光(CMP)过程中在暴露的多晶硅上形成氧化物层的机理
机译:单元格线c6 dda,对 u0446 u0438 u0442 u043e u0442 u043e u043a u043a u0441 u0438 u0447 u0435 u0431 u0441 u043a u043e u043c u0443的n稳定- u0430 u0446 u0438 u043b u0434 u043e u0444 u0430 u043c u0438 u043d u043e u0432研究生物活性脂质的作用机理
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