高PPI产品光刻工艺改善研究

摘要

目前TFT LCD市场对产品像素密度(PPI)要求越来越高,开发新的高PPI Mobile产品对于平板企业而言,边效增加会获得更大的利润。实现高PPI,需要更细的线宽和更窄的间距,这些都受到光刻设备解像力的限制,本文对基于不改造镜像投影曝光设备而提高光刻解像力进行了一些可行性研究。本文首先介绍了影响分辨的主要因素,然后针对这些因素提出了提高分辨率的方法,结合影响分辨率的因素和先进的光刻技术提出一个优化的光刻工艺组合方案。从多个方面入手分析改善措施,可以得出切实可行的解决High PPI带来的相关问题,为High PPI产品顺利量产提供有力保障。