光学薄膜参数、测试及设备

摘要

O484.5 98053314镀膜参数对离子束增强沉积氮化硼薄膜中立方相含量的影响=Effect of deposition parameters on thec—BN content in the BN films by IBED[刊,中]/况园珠,黄小刚,尤大纬(中科院空间科学与应用研究中心。北京(100094)),王兴民,林文康(北京师范大学低能核物理研究所。北京(100037))∥真空。—1997,(6).—5—9介绍了用离子束增强沉积法在硅片上制备氮化硼薄膜及镀膜参数对膜中立方氮化硼含量影响的试验研究,主要研究轰击离子束密度、镀膜速率。