工作气氛和偏压对含铁聚合物杂混薄膜制备的影响

摘要

采用等离子体增强金属有机化合物化学气相沉积（ＰＥＭＯＣＶＤ）工艺，在氧化性气氛（Ｏ２）和非氧化性气氛（Ｈ２、Ａｒ）中制备了含铁聚合物杂混薄膜。探讨了工作气氛和偏压对膜密度、沉积速率及其分布的影响。