基于红外光干涉技术的微纳结构内部三维形貌测量

摘要

基于红外光在半导体材料中的透射特性,将白光扫描干涉方法从可见光波段推广到红外光波段.设计研制了Linnik 结构红外光干涉系统,对具有三层台阶结构的微器件进行了无损三维形貌测试.实验结果表明,采用红外光对半导体材料微纳结构透射后的反射干涉技术,可以准确实现微纳结构内部三维形貌测量.可实现百nm量级台阶高度的准确透射测试,纵向测量误差控制在5%以内.该方法可广泛应用于半导体微纳器件结构测量技术领域,实现半导体器件封装后的内部形貌测试、键合界面质量评估以及在线工艺检测等.