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杨宇坤;
电子工业部;
化学电源; 物理电源; 制造; 电池;
机译:俄罗斯科学院物理化学研究所腐蚀研究的发展历史。第十三部分。钨,合金及其化合物化学气相沉积涂层的氟化方法
机译:硬质合金刀片涂层技术的发展历史—化学气相沉积和物理气相沉积
机译:俄罗斯科学院物理化学研究所腐蚀研究的发展历史。 Ch.G从非水溶液中析出金属
机译:中国粮食消费结构改变中国粮食市场的现状及展望
机译:基于对中国气溶胶辐射,化学和物理特性的测量的直接气溶胶辐射强迫。
机译:回顾基于CODEX原则的中国食品添加剂标准体系的发展历史
机译:中国应用型大学研究现状及展望——基于中国大陆文献的调查 Research Status and Development of China Application Oriented University—Based on a Survey of the Literature from China
机译:物理和几何因素对电化学电源阻抗的影响
机译:Alimpeza化学和等离子基板的工艺将核心单元张贴到随后的蒸汽(发展中国家)或用等离子增强的化学气相二聚(PECVD)的物理特性涂层中
机译:上行物理控制信道(PUCCH)的功率控制方法和设备本申请于2011年11月22日向中国专利局提交,申请号为201010554295.9,发明名称为“基于本发明的上行物理控制要求优先权”。中国专利申请“信道(PUCCH)功率控制方法和设备”,其全部公开内容并入本文。
机译:口腔物理/化学量度传感器,口腔物理/化学量度系统,口腔物理/化学量度方法以及制造口腔物理/化学量度传感器的方法
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