介质阻挡放电等离子体沉积多孔硅纳米颗粒膜的光发射及红外光谱

摘要

用介质阻挡放电(DBD)等离子体增强化学气相沉积(PECVD)的方法,以硅烷为源气体,在沉积区域加载脉冲负偏压进行调节,在玻璃基片上沉积得到具有荧光特征的多孔硅纳米颗粒膜.沉积过程的发射光谱结果表明,在412 nm处出现SiH*(A2△→X2π0-0)特征峰,证明放电沉积过程中存在不同程度的硅烷裂解.将脉冲负偏压固定在-300 V,当占空比从0.162增大到0.864时,薄膜的红外光谱显示Si-0-Si在1070cm-1伸缩振动吸收峰与800 cm-1的弯曲振动峰都有所增强,而930 cm-1的Si-H弯曲振动减弱.说明随着占空比的增加,Si-0-Si键的结合越来越明显.