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金属的化学-机械抛光技术研究进展

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摘要

介绍了近年来金属化学-机械抛光(CMP)技术的一些研究进展. 内容包括CMP技术的实验方法进展与抛光效果的表征,CMP设备与消耗品的发展. 分析了目前CMP技术存在的问题,提出了可能解决问题的一些建议. 认为定量CMP速率方程的建立是解决好终点在线检测的关键之一.

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来源
《应用化学》|2003年第5期|415-419|共5页
作者
何捍卫; 胡岳华; 周科朝; 徐竞;
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作者单位

中南大学粉末冶金国家重点实验室,长沙,410083;

中南大学资源加工与生物工程学院,长沙;

中南大学粉末冶金国家重点实验室,长沙,410083;

中南大学资源加工与生物工程学院,长沙;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类电化学、电解、磁化学;
关键词
金属; 化学机械抛光; 综述;
入库时间 2023-07-25 12:20:38

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