原位红外技术在左氧氟沙星合成中的缩哌机理及其异位杂质探讨中的应用

摘要

目的 研究左氧氟沙星合成中的缩哌机理及进行异位杂质形成机理的探讨.方法 利用原位红外技术,对左氟羧酸缩哌制成左氧氟沙星的重要步骤进行了跟踪研究.结果 最终捕捉到了中间过渡态的烯醇互变式的特征红外光谱,以及10号位Ar-F键受热消除后1567cm-1特征峰消失的整个过程,分析该特征峰的趋势可以准确的把握反应的进程.结论 最终确定反应的机理为典型的“活化芳烃先加成/后消除的亲核取代反应”,并根据有机反应机理中电子有效流动规则,推理出本工艺中N-甲基哌嗪不可能进攻9号位的氟,即不会形成类似EP8.0中氧氟沙星所产生的异位杂质D,这为工艺过程的优化建立了良好的理论基础.