聚二甲基硅氧烷基质微流控芯片通道的氧气氛改性研究

叶美英; 方群; 殷学锋

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聚二甲基硅氧烷基质微流控芯片通道的氧气氛改性研究

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通过将新制的PDMS微流控芯片置于氧气氛中对通道表面进行处理的简单方法,使电渗流大小及稳定性有了显著的改善.同时研究了氧气处理PDMS通道表面的时间对电渗流的影响,得到氧气处理的最佳时间为3 d.讨论了氧气作用于PDMS芯片表面的机理.在氧气处理3 d的PDMS微流控芯片上进行氨基酸分离实验,得到较好的分离效果.

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来源
《分析化学》|2004年第12期|1585-1589|共5页
作者
叶美英; 方群; 殷学锋;
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作者单位

浙江大学化学系微分析系统研究所,杭州,310027;

浙江大学化学系微分析系统研究所,杭州,310027;

浙江大学化学系微分析系统研究所,杭州,310027;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类仪器分析法（物理及物理化学分析法）;
关键词
聚二甲基硅氧烷(PDMS); 微流控芯片; 氧气氛处理;
入库时间 2022-08-18 01:51:13

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