化学镀钴合金薄膜表面吸附

摘要

钴合金薄膜化学沉积液是采用两个还原剂的:二甲胺硼烷(DMAB)和次磷酸钠。这个系统是允许自发的和自我活化的阻挡层沉积在铜丝上,再通过接触超大规模集成电路(ULSI)互联应用。这项工作提出了溶液的组成对材料性能和膜组成的影响。首先,我们提出了沉积速率,电阻,和薄膜中的各种元素,以及薄膜的粗糙程度。接下来,讨论了膜的成分以及它对溶液中还原剂组成比例直间的关系。实验结果表明,该膜硼、磷组成是由还原剂的表面吸附性决定的。因此,提出了这两种还原剂表面Co吸附模型并制定分析,与实验结果对比。