氮分压对钕铁硼表面直流磁控溅射沉积AlN/Al防护涂层结构和性能的影响

摘要

采用直流磁控溅射在钕铁硼表面沉积AlN/Al双层防护薄膜来提高磁体的耐腐蚀性能。先在基体表面沉积纯Al薄膜,然后沉积外层AlN薄膜。沉积AlN薄膜时,改变氮气分压,研究氮分压对薄膜结构和耐腐蚀性能的影响。结果显示,AlN纳米颗粒形成于内层Al结晶体表面。氮氩分压比为1:1时,钕铁硼表面形成了更致密的AlN/Al薄膜。膜基界面存在元素的互扩散和冶金结合。氮氩分压为1:1的AlN/Al防护薄膜具有最好的耐腐蚀性能。