高纯铝的电化学抛光工艺研究

摘要

本文研究了高氯酸/乙醇抛光液体系在15V安全电压下高纯铝的抛光工艺以及抛光过程的电流密度,并对"暗色膜"现象进行了解释,对抛光电极间距、操作温度对抛光效果的影响进行探讨,得出最佳抛光工艺:电极间距7～8cm,操作温度10～15℃,电流密度0.7～0.8A/m^2,抛光时间3min。