工业硅酸浸去除金属杂质钙

摘要

研究了HF-HCl浸出剂体系中,HF含量、HCl含量、浸出时间和硅粉粒度等因素对除钙的影响.结果表明,HF含量是最主要的影响因素；在2％HF-3％HCl、室温20 ℃、5h的最佳条件下,钙的去除率达到84.5％；在HF-HC1浸出剂体系中,CaF2的形成降低了钙的去除率.电子显微镜和能谱分析发现,工业硅中存在含钙四元系金属间化合物Si8Al6Fe4Ca,该化合物易被低浓度氢氟酸去除.