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基于焦点能量均衡的激光内雕刻路径优化

     
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摘要

激光内雕刻系统中,三维点的雕刻次序关系到雕刻的质量和效率.在考虑雕刻光路和激光能量分布影响的基础上,借鉴图像处理的思想及投影操作,提出了一种量化若干层内雕刻点光路遮挡程度的方法,并将遮挡程度的量化结果作为扩大点集合的判断依据,由此可采用柔性的方法调节雕刻质量与效率的平衡.

著录项

  • 来源
    《中国机械工程》|2008年第5期|598-602|共5页
  • 作者

    付星斗; 王平江; 唐小琦; 陈吉红;

  • 作者单位

    华中科技大学国家数控系统工程技术研究中心,武汉,430074;

    华中科技大学国家数控系统工程技术研究中心,武汉,430074;

    华中科技大学国家数控系统工程技术研究中心,武汉,430074;

    华中科技大学国家数控系统工程技术研究中心,武汉,430074;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 TP391.73;
  • 关键词

    路径优化; 能量均衡; 激光内雕系统; 图像处理;

  • 入库时间 2022-08-18 00:40:43

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