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Toppan Printing宣布进入32nm掩膜版量产

     

摘要

为了缩短光刻掩膜版循环周期,控制成本,日本掩膜版制造商凸版印刷(Toppan Printing)日前表示,作为业界第一个开发32nm光掩膜制造工艺的制造商,他们于6月开始量产32nm掩膜版,性能已通过了领先向32nm工艺转移的数码相机、移动电话和其他器件的芯片制造商的验证。

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