首页> 中文期刊> 《中国集成电路》 >上海华力采用明导Calibre RET方案进行65/45nm工艺的开发和生产

上海华力采用明导Calibre RET方案进行65/45nm工艺的开发和生产

         

摘要

明导国际宣布,由中国政府、上海联创投资管理有限公司、上海华虹(集团)有限公司、上海宏力半导体制造有限公司以及上海华虹NEC电子有限公司等合资成立的晶圆代工企业上海华力微电子有限公司采用了Calibre RET和OPC计算光刻平台,

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号