高铜含量中孔Cu-Si二元氧化物的合成和表征

孔岩; 陈嘉伊; 郭宪吉; 马会宣; 侯文华; 颜其洁

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高铜含量中孔Cu-Si二元氧化物的合成和表征

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采用CTAB(十六烷基三甲基溴化铵)为模板剂, Na2SiO3*10H2O为硅源, Cu(NH3)4(NO3)2为铜源, 在常温下成功地合成出含铜质量分数高达26%, 具有中孔结构的硅基氧化铜复合材料. 较系统地研究了反应时间、温度、 pH值和铜掺入量等对产物性能的影响. 用XRD, HRTEM, FTIR, BET, TG-DTA, ICP和XPS等手段对合成产物的结构进行了表征.

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来源
《高等学校化学学报》|2004年第2期|320-324|共5页
作者
孔岩; 陈嘉伊; 郭宪吉; 马会宣; 侯文华; 颜其洁;
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作者单位

南京大学化学化工学院介观材料科学实验室,南京,210093;

南京大学化学化工学院介观材料科学实验室,南京,210093;

南京大学化学化工学院介观材料科学实验室,南京,210093;

南京大学化学化工学院介观材料科学实验室,南京,210093;

山西运城学院,运城,044000;

南京大学化学化工学院介观材料科学实验室,南京,210093;

南京大学化学化工学院介观材料科学实验室,南京,210093;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类化学动力学、催化作用;
关键词
硅基氧化铜; 中孔材料; 合成条件; 铜含量; 表征;
入库时间 2022-08-18 02:04:14

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