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反射镜基片无损伤清洗技术研究

         

摘要

本文以抛光表面模型为理论,分析了基片表面损伤产生的机理,设计正交实验,得出了基片表面损伤产生的主要因素.通过改进清洗工艺,制备出了无损伤的超光滑表面.

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