纳米晶钛薄膜的制备及结构分析

摘要

采用磁控溅射和离子镀膜工艺在Mo基片上制备了具有不同晶粒尺寸的纯Ti薄膜,并利用X光衍射(XRD)、透射电镜(TEM)和扫描电镜(SEM)分析和观察了两类Ti膜的结构和形貌.实验结果显示:与溅射镀膜相比,离子镀膜的晶粒择优取向程度略低,Ti膜与基片结合较好;较高的基片温度有利于提高膜的致密程度,并降低膜的晶粒择优取向程序.