磁控溅射制备金属铀膜

摘要

研究了通过磁控溅射方法制备高纯金属铀膜的可行性.采用X射线衍射(XRD)、俄歇电子能谱(AES)、扫描电镜(SEM)、表面轮廓仪分析了沉积在单晶硅或金基材上铀薄膜的微观结构、成分、界面结构及厚度、表面形貌和表面粗糙度.分析结果表明:磁控溅射制备的铀薄膜为纯金属态,氧含量和其它杂质含量均低于俄歇电子能谱仪的探测下限;溅射沉积的铀镀层与铝镀层之间存在界面作用,两者相互扩散并形成合金相,扩散层厚度约为10 nm.铀薄膜厚度可达微米级,表面光洁,均方根(RMS)粗糙度优于15 nm.