镉胁迫下磁场对绿豆幼苗根茎叶显微结构的影响

摘要

以绿豆(Vigna radiata)为实验材料,比较研究了不同剂量磁场处理绿豆种子对种子电导率、幼苗生长和叶绿素含量的影响以及镉胁迫绿豆幼苗根、茎、叶显微结构的影响.结果表明:1)与对照相比,400mT、600mT、800mT、1000mT磁场均显著提高了种子电导率,且随着磁场强度的增加电导率显著增大;2)400mT、600mT、800mT磁场均能显著提高绿豆幼苗叶片叶绿素含量和幼苗发育,比较而言600mT效果最好,1000mT处理则显著降低了叶片叶绿素含量,抑制了幼苗发育;3)与对照组相比,5μmol·L-1镉胁迫绿豆幼苗栅栏组织和海面组织细胞排列紧密,厚度变薄,而种子经过600mT磁场预处理后再进行镉胁迫,厚度接近对照组.对于茎和根而言,镉胁迫抑制了形成层细胞分裂,维管柬体积缩小,而种子经过600mT磁场预处理后再进行镉胁迫,其维管束体积增大接近对照组.表明,600mT磁场预处理种子可改善镉胁迫对幼苗的伤害.