新型水处理剂低膦水解聚马来酸酐的合成

摘要

以马来酸酐(MA)、双氧水、次磷酸盐为原料,在催化剂的作用下,采用水溶液聚合法,合成出低膦水解聚马来酸酐(HPMA).合成低膦HPMA的最佳工艺条件为:反应温度110～120℃,反应3 h,催化剂用量为0.05%时,得到固含量为50%的浅黄色透明液体低膦(含磷3%)水解聚马来酸酐.缓蚀阻垢性能研究结果表明,HPMA具有良好的缓蚀、阻垢性能,HPMA药剂浓度为3.0 mg/L时,阻垢率和缓蚀率分别为33.9%和39.38%.