EUV微影技术与7nm工艺

摘要

集成电路的制造技术下一步将进入7nm节点，业界期待极紫外光(EUV)微影技术的成熟并广泛推广应用，期望EUV能用来制造更小、更便宜的晶片。数据表明，EUV仍然缺少具有高功率，足够可靠的光源来保证目前晶圆厂每天所要求的晶圆产能。