不同栽培密度与叶面肥喷施浓度对水稻叶片光系统Ⅱ荧光参数及SPAD值的影响

摘要

为探究不同栽培密度与叶面肥喷施浓度对水稻叶片光系统Ⅱ(PhotosystemⅡ,PSⅡ)荧光参数及SPAD值影响,并筛选出促进水稻光合作用的最佳肥密处理.本研究通过栽培密度及叶面肥喷施浓度裂区试验,利用植物多功能仪测定水稻分蘖期叶片水稻叶片PSⅡ的非光化学猝灭(Non-photochemical quenching,NPQt)、有效量子产量(Effective quantum yield,Phi2)、非调节性能量耗散的量子产量(The quantum yield of unregulated energy dissipation,PhiNO)、调节性能量耗散的量子产量(The quantum yield of regulatory energy dissipation,PhiNPQ)及SPAD值,对各指标数据进行多重比较.研究发现,主区因素栽培密度对NPQt造成显著性影响,副区因素叶面肥喷施浓度对NPQt造成显著性影响,对Phi2及PhiNPQ造成极显著性影响,栽培密度及叶面肥喷施浓度耦合作用对PhiNO造成显著性影响,对Phi2、PhiNPQ造成极显著性影响.随着栽培密度的增加,NPQt呈先下降后上升的趋势、Phi2呈先升高后降低的趋势、PhiNO现先持平后降低的趋势、PhiNPQ先降低后升高的趋势、SPAD呈先上升后降低的趋势.随着叶面肥喷施浓度的增加,NPQt与PhiNPQ呈先增加后减少的趋势、Phi2与SPAD呈递增趋势、PhiNO呈先减少后增加的趋势.在栽培密度及叶面肥喷施浓度交互作用影响下,D4L2处理对水稻叶片的NPQt提升效果最佳,D3L3处理对水稻叶片的Phi2与PhiNO影响效果最佳,D4L3处理对水稻叶片的PhiNPQ提升效果最佳,D1L1处理的水稻叶片的SPAD值最高.综合比较筛选出D4L2处理为最优的栽培措施,可有效增强水稻的光合作用能力.研究表明不同的栽培密度与叶面肥喷施浓度对水稻叶片PSⅡ荧光参数造成的影响不同,利用不同处理下的水稻叶片的光合特性,可以为筛选合理的水稻栽培措施提供依据.