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殷宇豪; 沈阳; 王虎; 陈肖; 邵林; 华文宇; 王娟; 崔义;
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所;
中国科学技术大学纳米科学与技术学院;
无锡拍字节科技有限公司;
Department of Physics and Engineering Physics University of Tulsa 74104;
铁电; 表面; 界面; HFO; 真空互联; 原位;
机译:完全由ALD生长的TiN / Hf_(0.5)Zr_(0.5)O_2 / TiN叠层:铁电和结构性质
机译:由于应力诱导的结晶在低热预算下,TiN / Hf_(0.5)Zr_(0.5)O_2 / TiN电容器的大铁电极化
机译:氧气源氢气源氧源对低温铁电锡/ HF_(0.5)ZR_(0.5)O_2 / TIN电容器的影响
机译:衬底类型对TiN / Hf_(0.5)Zr_(0.5)O_2 / Si MFS电容器电特性的影响
机译:用于非易失性存储应用的铅锆(x)钛(1-x)氧(3)铁电电容器的脉冲激光烧蚀沉积和表征。
机译:新型高活性TiB2 /(TiB2-TiN)分层/杂结构纳米复合材料的原位控制快速生长
机译:锡/ HFO2 / TIN MIM电容器中的漏电流和由于电应力引起的降解
机译:YNCO薄膜在TiN(001)和CeO2涂层TiN表面上的生长。
机译:具有铁电电容器和TiN保护层的半导体存储器
机译:TiN / Ta 2 Sub> O 5 Sub> / TiN电容器的制造及再氧化方法
机译:TiN / Ta2O5 / TiN电容器的制造方法
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