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InGaN薄膜中电子自旋偏振弛豫的时间分辨吸收光谱研究

     

摘要

采用飞秒时间分辨圆偏振光抽运-探测光谱对In0.1Ga0.9N薄膜的电子自旋注入和弛豫进行了研究.获得初始自旋偏振度约为0.2,此结果支持在圆偏振光激发下,重、轻空穴带的跃迁强度比为3:1,而不支持1:1或1:0.94的观点.同时获得自旋偏振弛豫时间为490±70ps,定性分析了自旋弛豫机理,认为BAP机理是电子自旋弛豫的主要机理.

著录项

  • 来源
    《物理学报》|2008年第6期|3853-3856|共4页
  • 作者单位

    中山大学光电材料与技术国家重点实验室,物理科学与工程技术学院,广州,510275;

    中山大学光电材料与技术国家重点实验室,物理科学与工程技术学院,广州,510275;

    中山大学光电材料与技术国家重点实验室,物理科学与工程技术学院,广州,510275;

    中山大学光电材料与技术国家重点实验室,物理科学与工程技术学院,广州,510275;

    中山大学光电材料与技术国家重点实验室,物理科学与工程技术学院,广州,510275;

    中山大学光电材料与技术国家重点实验室,物理科学与工程技术学院,广州,510275;

    中山大学光电材料与技术国家重点实验室,物理科学与工程技术学院,广州,510275;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 物理学;
  • 关键词

    电子自旋; InGaN; 自旋极化; 自旋弛豫;

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