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廖乃镘; 李伟; 蒋亚东; 匡跃军; 祁康成; 李世彬; 吴志明;
电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054;
电子科技大学,光电信息学院,成都,610054;
椭偏测量; 透射法; 光学参数; 氢化非晶硅薄膜;
机译:用X射线反射率,ESCA和光学椭偏法测量硅和非晶氢化碳上全氟聚醚聚合物薄膜的厚度
机译:TiO2-SiO2薄膜的密度,厚度和组成的X射线反射法,椭偏仪和电子探针显微分析耦合
机译:从多个样品单波长椭偏数据中同时测量薄膜和基材的光学参数
机译:改进OTTO构型结合椭偏法测量表面等离子体共振的薄膜厚度
机译:基于光谱椭偏法的氢化硅薄膜太阳能电池的生长表征和光学建模。
机译:银纳米薄膜表面等离激元的厚度色散:透射法迭代椭偏法测定。
机译:n-i-p氢化非晶硅基光伏器件的光谱椭偏法研究
机译:椭偏法同时测定极薄膜的折射率和厚度
机译:椭偏分析仪,样品椭偏分析方法和薄膜厚度变化量测量
机译:椭偏分析仪,椭偏分析仪,用于测量样品,测量薄层厚度变化的方法。
机译:椭偏分析设备,样本椭偏分析方法,以及用于测量薄层厚度变化的设备
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