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刘波; 唐文进; 宋忠孝; 陈亚芍; 徐可为;
西安交通大学金属材料及强度国家重点实验室,西安,710049;
陕西师范大学大分子科学陕西省重点实验室,西安,710062;
介质扩散阻挡层; 非晶a-SiC:H薄膜; 非晶掺氮碳化硅基薄膜(a-SiCNx:H); 铜扩散;
机译:氮掺入对介质阻挡放电等离子体制备的n掺杂DLC薄膜电极的影响:结构演化和电化学性能
机译:a-SiC:H低k沉积作为先进微电子互连中的铜扩散阻挡层
机译:用于超大规模集成应用的热线化学气相沉积纳米范围a-SiC:H扩散阻挡膜
机译:有机前体对高级A-SiC:H低铜扩散阻挡层沉积的影响
机译:SiLK低k聚合物电介质与钽基扩散阻挡/粘附促进剂薄膜的集成和相容性研究。
机译:介质阻挡放电(DBD)处理对聚偏二氟乙烯(PVDF)基共聚物介电性能的影响
机译:不同波形对有源毛细管介质阻挡放电电离质谱性能的影响
机译:n - ) - p Inp太阳能电池性能参数的比较研究 - 封闭安瓿硫扩散到Cd和Zn掺杂的p型Inp衬底中
机译:多层扩散阻挡层结构,用于改善粘合性能
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