超导Nb膜表面减反膜技术研究

钟青; 刘文德; 马晓欢; 王君; 郑春弟; 王雪深; 李劲劲

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超导Nb膜表面减反膜技术研究

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针对单光子探测芯片中超导Nb膜减反的问题,研究了磁控溅射Nb膜折射率光谱特性随Nb膜厚度变化的规律,同时研究了化学气相沉积法制备的SiO2和SiNx介质膜的折射率光谱特性.为降低超导Nb膜对633 nm光的反射比,在Nb膜表面设计和制备了SiO2和SiNx减反膜.测试结果表明:SiO2和SiNx使反射比明显减小,计算结果验证了这一趋势.

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来源
《计量学报》|2019年第1期|78-81|共4页
作者
钟青; 刘文德; 马晓欢; 王君; 郑春弟; 王雪深; 李劲劲;
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作者单位

中国计量科学研究院,北京100029;

中国计量科学研究院,北京100029;

北京信息科技大学仪器科学与光电工程学院,北京100192;

北京信息科技大学仪器科学与光电工程学院,北京100192;

中国计量科学研究院,北京100029;

中国计量科学研究院,北京100029;

中国计量科学研究院,北京100029;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类光学计量;
关键词
计量学; 减反膜; 超导Nb膜; 介质膜; 单光子探测芯片;
入库时间 2023-07-25 17:35:30

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