NiCo/PTFE复合膜的制备及表征

摘要

以N2H4为还原剂,采用化学镀和模板技术相结合的方法制备出NiCo/PTFE磁性复合膜.研究了磁性复合膜制备的适宜条件,利用DSC、SEM、XRD、VSM等手段对膜的结构和磁性能进行表征和测试.结果表明:在Co2+0.14 mol/L、Ni2+0.06 mol/L、NaOH 1.00mol/L、N2 H4 0.40 mol/L、反应温度70℃、反应时间70 min条件下制备的NiCo/PTFE磁性复合膜具有较优良的磁性能,其单位质量磁化率Xm=0.16 cm3/g,饱和磁化强度Ms=83.38 Am2/kg,剩磁Mr=29.31 Am2/kg,矫顽力Hc=111.47 Oe;PTFE膜孔中及膜表面上原位生成与基膜无化学键作用的磁性Ni、Co金属粒子.复合膜具有软磁材料的内禀性能.