University of Houston;
机译:通过高密度等离子体蚀刻将图案转移到低介电常数材料中
机译:通过HMDS等离子体处理,原位修复等离子体诱导的损伤和帽电介质屏障常电恒材料
机译:腐蚀对电感耦合碳氟化合物等离子体中SiCOH low-k薄膜介电常数和表面组成的影响
机译:在100MHz电容耦合的H2 / N2气体等离子体中蚀刻有机低介电常数薄膜
机译:用于在硅上构图高介电常数材料的等离子体蚀刻化学和反应机理。
机译:致力于具有高介电常数和低损耗的柔性介电材料:具有均相分散的CNT和离子液体纳米域的PVDF纳米复合材料
机译:通过HMDS等离子体处理原位修复等离子体诱导的损伤和帽电介质屏障