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1/F NOISE IN SEMICONDUCTORS AND METALS.

机译:半导体和金属的1楼噪声。

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摘要

The nature of 1/f noise in semiconductors and metals has been analyzed in light of the information provided by some unique, empirically determined parameters. Measurements of the instantaneous resistivity fluctuation isotropy, of the Hall noise magnitude and of the correlation between Hall noise and resistivity noise are presented. Results bearing on the Gaussian nature and the spatial coherence of 1/f noise are also given. The discovery of thermally activated spectral features in the noise from silicon-on-sapphire (SOS) samples is documented. A model for the origin of 1/f noise in SOS and one for that in bismuth are described. Possible generalizations of these findings are commented on.
机译:根据一些独特的,凭经验确定的参数所提供的信息,已经分析了半导体和金属中1 / f噪声的性质。给出了瞬时电阻率波动各向同性,霍尔噪声幅度以及霍尔噪声与电阻率噪声之间的相关性的测量结果。还给出了与高斯性质和1 / f噪声的空间相干性有关的结果。记录了蓝宝石硅(SOS)样品噪声中热激活光谱特征的发现。描述了SOS中1 / f噪声的起源模型和铋中的噪声模型。评论了这些发现的可能概括。

著录项

  • 作者

    BLACK, ROBERT DOUGLAS.;

  • 作者单位

    University of Illinois at Urbana-Champaign.;

  • 授予单位 University of Illinois at Urbana-Champaign.;
  • 学科 Condensed matter physics.
  • 学位 Ph.D.
  • 年度 1984
  • 页码 185 p.
  • 总页数 185
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

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